金屬氫化物氫凈化裝置
工作原理
金屬氫化物儲氫凈化裝置是利用儲氫合金選擇性吸氫的能力，吸收較低純度氫氣中的氫形成金屬氫化物，之后用氫氣將濃縮于裝置空間的雜質(zhì)氣體吹除，即可提高裝置中氫氣的純度，從而起到凈化氫氣的作用。
金屬氫化物儲氫凈化裝置由兩個相同的儲氫凈化器組成，可實現(xiàn)連續(xù)凈化氫氣的目的，其示意圖如下：
圖1 金屬氫化物儲氫凈化裝置示意圖
金屬氫化物儲氫凈化裝置通過以下過程實現(xiàn)了持續(xù)工作：（1）儲氫凈化器Ⅰ吸氫：將低純度氫通入儲氫凈化器Ⅰ，同時向水套中通入常溫水，使其開始吸氫。（2）儲氫凈化器Ⅰ放氫、儲氫凈化器Ⅱ吸氫：儲氫凈化器Ⅰ吸氫完成后，放出雜質(zhì)氣，然后向其水套中通入高溫水，儲氫凈化器Ⅰ開始放出高純氫氣；于此同時，將低純度氫通入儲氫凈化器Ⅱ，使其開始吸氫。（3）儲氫凈化器Ⅱ放氫、儲氫凈化器Ⅰ吸氫：儲氫凈化器Ⅰ放氫完全后，此時儲氫凈化器Ⅱ完成吸氫；向儲氫凈化器Ⅱ的水套中通入高溫水，使其開始放氫；同時將低純度氫通入儲氫凈化器Ⅰ，使其開始吸氫。如此通過兩個儲氫凈化器交叉進行吸放氫，實現(xiàn)了連續(xù)凈化氫氣的操作。
產(chǎn)品規(guī)格
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型號
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處理量
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產(chǎn)氫純度
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進氫壓力（MPa）
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出氫壓力
（MPa）
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循環(huán)水量（m3/h）
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HYP-5
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≤ 5m3/h
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99.999%
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2~3
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0.1~3
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0.6
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HYP-10
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≤ 10m3/h
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99.999%
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2~3
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0.1~3
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1.3
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HYP-30
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≤ 30m3/h
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99.999%
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2~3
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0.1~3
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3.8
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HYP-50
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≤ 50m3/h
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99.999%
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2~3
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0.1~3
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6.4
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HYP-100
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≤ 100m3/h
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99.999%
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2~3
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0.1~3
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12.8
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該產(chǎn)品采用不銹鋼材質(zhì)制作，工作時配套使用20~30℃常溫水浴和50~60℃高溫水浴，可將低純度原料氫凈化提純至氫氣純度為99.999％以上，原料氫中不得含有H2O、O2、H2S、NO、SO2、Cl2及CO等會對裝置內(nèi)部的儲氫合金產(chǎn)生毒害作用的雜質(zhì)氣體。表中列出了幾種常用規(guī)格的產(chǎn)品，我們也可按照客戶要求定制產(chǎn)品。
產(chǎn)品特性及應(yīng)用
·石化、化工、醫(yī)藥加氫反應(yīng);
·航空航天熱處理，人造金剛石，半導體和集成電路制造的保護氣;
·粉末冶金、金屬焊接、重金屬冶煉凈化;
·航天飛機和潛艇的水分解與合成，原子能工業(yè)中的氫濃縮等。